Ключевые слова: magnetron sputtering, films, microstructure, resistivity, temperature dependence, X-ray diffraction
Bole S., Toth J., Bird M., Ehmler H., Smeibidl P., Hoffmann M., Dixon I., Heinrich J., Kempfer S., Prokhnenko O., Lake B.
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.
Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ru
Техническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.